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LPCVD低压化学气相淀积设备 汤锅炉 详细摘要: LPCVD低压化学气相淀积设备式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低,气体分子的平均自由程和扩散系数大,故可采用密集装片...
产品型号: 所在地:青岛市 更新时间:2023-04-19 参考价: 面议 在线留言
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详细摘要: LPCVD低压化学气相淀积设备式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低,气体分子的平均自由程和扩散系数大,故可采用密集装片...
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